با سقوط آمار ثبت اختراع چین در سهماهه نخست سال جاری که بخش عمده آن ناشی از شیوع ویروس کرونا بوده است، کارشناسان مختلف، تحلیلهای به نسبت متفاوتی را در خصوص وضعیت سیستم پتنت چین در سال ۲۰۲۰ ارائه مینمایند. این کشور که خود را بهعنوان بزرگترین بازیگر ثبت اختراع در جهان مطرح نموده و به تازگی در ثبت درخواستهای «PCT» نیز، از آمریکا پیشی گرفته است، با چالش بزرگی برای ادامه صدرنشینی خود مواجه میباشد. با این حال، افزایشهای نسبی در ماه مارس، نشان میدهد که این کاهش تنها به دلیل تأخیر شرکتها و آژانسهای ثبت اختراع در ابتدای سال (دور کار شدن بسیاری از آنها و سایر اختلالات مرتبط) بوده و حتی ممکن است در پایان سال، با افزایش درخواستها نسبت به سال ۲۰۱۹ مواجه شویم.
معمولاً به دلیل تعطیلات سال نو (۲۴ ژانویه تا ۲ فوریه)، فعالیتهای ثبت اختراع در ماه فوریه، با کاهش مواجه میشود و همین عامل هم، یکی از دلایل کاهش آمار ثبت درخواست در چین بوده است. با این حال، شیوع کووید-۱۹، این روند را تشدید نموده و محدودیتهای ناشی از اعمال قرنطینه در چین، بسیاری از فعالیتهای تحقیق و توسعه، ثبت درخواست توسط آژانسهای ثبت اختراع و همچنین فرآیندهای دفتر مالکیت فکری چین را تحتالشعاع قرار داد. یکی از وکلای فعال در حوزه «IP»، در خصوص این کاهش قابل توجه میگوید: «فوریه امسال، یکی از سختترین دورهها بود. کنترلهای رفتوآمدی بسیار زیادی وضع شد و بسیاری از کارمندان که برای تعطیلات به سفر رفته بودند، امکان بازگشت نداشتند. حتی بسیاری از افرادی که در حومه پکن بودند، برای یک دوره زمانی، امکان بازگشت مجدد به شهر را نداشتند». نتیجه این شرایط اضطراری، کاهش ۳۱/۶ درصدی درخواستها (از ۸۷.۹۴۷ در فوریه ۲۰۱۹ به ۶۰.۲۰۳ در فوریه ۲۰۲۰) بوده که با وجود رشد ۴/۱ درصدی در ژانویه و ۹/۵ درصدی در مارس، مجموعاً کاهشی ۳/۶ درصدی را برای سهماهه نخست نشان میدهد.
با وجود این وضعیت نگرانکننده که نمود آن در کاهش تعداد درخواستهای سهماهه اول مشاهده میشود، به نظر میرسد که بنگاهها موفق به تطابق با وضعیت فعلی شدهاند و با وجودی که حتی نیمی از کارمندان را در روزهای کاری در اختیار ندارند، با وضع مقرراتی مبنی بر شیفتبندی کارکنان و یا دورکاری، فعالیتهای خود را به ظرفیت عادی رسانیدهاند. روند صعودی در ماه مارس و ماههای باقیمانده تا پایان سال، این نوید را میدهد که احتمالاً امسال هم روند صعودی تعداد درخواستهای به ثبت رسیده ادامه خواهد داشت.
گفتنی است که دو نظریه پیرامون آینده ثبت اختراع در چین در سال ۲۰۲۰ وجود دارد. از یکسو، کاهش بودجه و کار از راه دور، موجب میشود که راندمان تحقیق و توسعه کاهش یافته و حتی برخی از شرکتهای ضعیفتر، از دور خارج شوند. دولت نیز، یارانههای حمایتی خود را کاهش میدهد و در مجموع، تعداد پروندههای ثبت اختراع، کاهش محسوسی را تجربه خواهند کرد. در مقابل در نظریه دوم، شرکتهای بزرگ و متقاضیان برجسته ثبت اختراع مانند هوآوی، اعلام کردهاند که علیرغم شرایط اقتصادی حال حاضر، هزینههای تحقیق و توسعه خود را افزایش خواهند داد و این چشماندازی امیدوارکننده پدید میآورد. در حالی که همکاریهای اروپا و آمریکا برای مقابله با اپیدمی ادامه دارد، افزایش سرمایهگذاریهای تحقیقاتی در چین، میتواند فرصتی ارزشمند برای فناوران این کشور در پیشی گرفتن از رقبای قدرتمند غربی خود فراهم سازد.